勻膠機是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備，膜的厚度取決于該機的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。采用觸摸屏設(shè)置可用于直徑28-200mm晶片涂覆，儀器配有“安全開關(guān)按鈕”轉(zhuǎn)速范圍300-8500RPM，可選無油或有油真空泵等配件。
近年來的發(fā)展趨勢是在自動工作方式的勻膠機中加入預(yù)涂增粘劑(HMDS)的冷板和熱板工藝模塊，以增強光刻膠和晶片的附著力。為了提高生產(chǎn)率，國外已經(jīng)研制出多種工藝模塊任意組合的積木式結(jié)構(gòu)，有的還帶有膠膜自動測量和監(jiān)控裝置。
應(yīng)用：
該設(shè)備主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種工作方式。
從其原理來說它有以下兩個特點：
(1)旋轉(zhuǎn)速度
轉(zhuǎn)速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標(biāo)示的轉(zhuǎn)速和電機的實際轉(zhuǎn)速誤差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲得準(zhǔn)確的實驗數(shù)據(jù)的。目前轉(zhuǎn)速控制方面有國際認定標(biāo)準(zhǔn)，如美國NIST標(biāo)準(zhǔn)等。
(2)真空吸附系統(tǒng)
真空泵一般采用無油泵，即通常說的干泵，因為任何的油污都可能堵塞真空管道，如果真空吸附力降低，會導(dǎo)致基片吸附不住而產(chǎn)生"飛片"的情況，還會讓滴的膠液不慎進入真空管道系統(tǒng)造成*堵塞。有的勻膠機通過聯(lián)動機制，當(dāng)真空吸附力不夠時不會開始旋轉(zhuǎn)。這樣可有效避免滴的膠液不慎進入真空管道系統(tǒng)。
總的來說，他們原理都是一樣的，即在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。
